（原标题：EUV关键技术有重磅突破产业链公司受关注）

e公司讯，全球一号代工厂台积电宣布了有关极紫外光刻(EUV)技术的两项重磅突破，一是首次使用7nm EUV工艺完成了客户芯片的流片工作，二是5nm工艺将在2019年4月开始试产。EUV是下一代光刻主流技术，可在大规模制造半导体时能够有效减少越来越高的成本和工艺复杂程度，EUV被业界认为是破除摩尔定律遇到阻碍的核心设备。行业龙头ASML预计2018年EUV设备销售增长30%达到25台。产业链相关公司望受益。